羥基鑒定方法原理：
    我們知道陶瓷在燒造過程中會發(fā)生一系列的物理和化學變化。其中比較重要的反應之一是釉料的脫水反應。反應過程如下：
1、100～110℃吸附水開始排出。
2、110～400℃其它礦物雜質(zhì)所帶入的水排出。
3. 400～450℃結(jié)構(gòu)水開始排出。
4. 800～1000℃時排水結(jié)束。
    由于中國古陶瓷的燒造溫度均在1200℃以上（除陶器外），同樣現(xiàn)代仿品的成瓷溫度亦均在1280℃左右。因此從理論上可以得知瓷器在燒造結(jié)束后，其釉面中不存在結(jié)構(gòu)水、離子水、吸附水等。我們對新燒造的陶瓷做了大量的檢測，檢測結(jié)果與理論推算*相附。
新仿品和古代真品有著本質(zhì)的區(qū)別，這是問題的關(guān)鍵。我們?nèi)绻荒苷_地理解仿品與真品之間的本質(zhì)區(qū)別，也就無法找到正確的鑒定方法。
    我們知道陶瓷的燒造過程是一個造巖過程或者成礦過程，真品的成巖過程和仿品的成巖過程有著本質(zhì)的不同。
    真品與仿品的燒制過程從理論上講是相同的，但真品具有在地表條件下長期風化和水解的過程，而仿品卻沒有。真品在地表環(huán)境中長期變化的過程仿品是無法做到的。也就是說從理論上講，真品的本質(zhì)是無法仿制的。（地表環(huán)境指:館藏環(huán)境,傳世環(huán)境,墓葬環(huán)境,水下環(huán)境等現(xiàn)有古陶瓷所處的環(huán)境。
真品在地表環(huán)境下其釉面將會發(fā)生如下水解反應：
cnSi-O-R + H.OH  →  Si-OH + R+OH-
 Si-O-Si + OH-  → Si-OH + Si-O-5
     H+置換R+后形成硅凝膠薄膜   [ Si（OH）4.nH2O或SiO2.xH2O ]
以上的反應生成物中既有氫氧根（羥基）、也有結(jié)構(gòu)水。上面的這種反應進行的很慢。
羥基鑒定方法優(yōu)點 ：  
    現(xiàn)代仿品和古代真品的成巖過程有著本質(zhì)區(qū)別，而時間是造成的這種區(qū)別的根本原因，造假者無法跨越時間所產(chǎn)生的鴻溝。時間所造成的古陶瓷的物理、化學變化是造假者無法仿制的?；诖?，古陶瓷真?zhèn)卫庾V--羥基鑒定方法的技術(shù)研發(fā)者把古陶瓷真品在地表環(huán)境下其釉面所產(chǎn)生的化學反應中生成的羥基作為古陶瓷鑒定的定性及定量物質(zhì)。并運用世界上的激光拉曼光譜測試儀進行相關(guān)檢測，從而做出準確而科學的鑒定結(jié)論。
    運用拉曼光譜——羥基檢測技術(shù)進行古陶瓷鑒定，可以彌補傳統(tǒng)眼學的主觀偏見與過失，同時拉曼光譜鑒定能避免取樣鑒定對古陶瓷本身價值的損害，實現(xiàn)了無損、抗干擾、定性、定量的科學檢測標準。

    羥基鑒定方法是一種全新的古陶瓷檢測方法,據(jù)說這種方法的準確率為100%。